原子层沉积系统主要特点与优势_机械设备_供求信息_资讯

　　SILAYO PEALD 光学涂层原子层沉积系统扩展了 SENTECH ALD 和 PEALD 产品组合，适用于 330 毫米基底和三维基底的沉积。为了确保层厚的均匀性和一致性，PEALD用于沉积光学薄膜，如防反射涂层或光学滤光系统。SILAYO PEALD 光学涂层原子层沉积系统利用SENTECH平面三螺旋天线（PTSA）感应耦合等离子体（ICP）源的优势进行PEALD处理。

　　主要特点与优势

　　PEALD最佳薄膜均匀性<1%

　　SENTECH SILAYO等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统设计用于大型三维物体及批量小型基底上的共形和均质光学涂层。SENTECH专有的平面三螺旋天线（PTSA）为均匀光学涂层提供均匀等离子体。

　　样品直径可达330毫米，高度可达100毫米

　　SENTECH SILAYO PEALD 系统实现均匀涂层，样品直径可达330毫米，垂直尺寸可达100毫米。

　　利用射频偏置进行应力控制

　　可选的射频偏置基板电极允许修改层的性质（如应力和折射率）。

　　原子层沉积系统

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